高精度光栅制造用母光栅及其读数头研究

　　1、课题目标：
　　研发机床检测用光栅复制所需要的母光栅制造技术及读数头设计制造技术，探索高精度光栅制造关键技术，为高精度光栅的规模化生产提供母光栅制造技术。
　　2、考核指标：
　　（1）具备进一步工业化复制高精度光栅的可行性；
　　（2）提供能支持衍射光栅复制所需要的母光栅及其读数头设计制造技术；
　　（3）完成1000mm母光栅原型及读数头原型各2-3件。
　　（4）具体指标：
　　母光栅技术指标：
　　线纹区刻划范围： 15mm╳1000mm
　　光栅尺刻划精度: ≤±0.5μm/m
　　线纹区栅距： 0.002～0.02mm
　　线纹区线纹位置精度： ≤0.5μm/mm
　　读数头技术指标：
　　安装容许误差：±0.1mm；
　　输出信号：正余弦1Vpp；TTL；差动TTL；串口等（根据光栅应用场合）。
　　母光栅的计量与基准传递技术：需要权威部门的鉴定证明。
　　形成2-3项专利技术或专有技术，形成不少于5项技术规范与标准。研究成果指导产品的设计制造。
　　3、研究内容：
　　（1）母光栅制造技术：
　　适宜光栅复制的母光栅材料选取、母光栅纳米级光刻技术、高精度光栅的计量与基准传递。
　　（2）光栅读数头
　　自适应光栅读数系统、绝对式光栅读数系统、基于相位光栅的微纳米读数头、对光栅条纹扫描的微纳米读数头、光栅信号集成处理电路和数控接口。
　　4、实施年限：
　　2011年1月-2013年12月
　　5、课题设置及经费要求：
　　拟支持1项课题研究，中央财政投入经费应主要用于关键技术研究、测试实验与工艺技术研究，自筹与地方配套资金合计数不低于中央财政投入经费的20%。
　　中央财政投入经费支持方式：前补助。
　　6、申报条件：
　　课题牵头单位应具有精密测量领域较好的技术积累，基础研究和工作业绩具备较强的专业研发团队和较完善的试验、开发条件；鼓励“产、学、研、用”联合申报。